4月15日，列入2018年北京科創中心建設重點項目清單的燕東微電子8英寸集成電路研發產業化及封測平臺項目舉辦上梁儀式，該項目預計于今年底在開發區投產。

這也是今年上半年以來，繼科益虹源自主研發設計生產的首臺高能準分子激光器順利通過出廠驗收、北方華創二期投入使用、威訊封測擴產項目簽約……北京亦莊集成電路產業再次取得的豐碩成果。據悉，該項目將是北京首條大規模量產8英寸集成電路產線，主要生產8英寸線寬達0.11um集成電路芯片及其封裝后的產品，預計量產后月產能可達到5萬片。同時，該項目也是北京首條大規模量產8英寸線，通過與國際頂尖驅動電路、功率器件廠商合作，建成國內技術最先進的特色工藝產線，為北京地區設計企業、科研院所提供試制平臺，為裝備和材料企業提供驗證平臺，有助于加快北京打造全國集成電路產業的技術創新中心。

成果轉化落地一直是開發區的特色之一，作為三城一區的一“區”，北京亦莊承接了三大科學城的科技成果轉化工作。燕東項目并不是個例，今年3月底，北京科益虹源光電技術有限公司自主研發設計生產的首臺高能準分子激光器順利通過出廠驗收。這款產品填補了國內在準分子激光技術領域的空白，打破了國外廠家對該技術產品的長期市場壟斷。樣機完成相關實驗驗證后，將開始向上海微電子裝備集團提供訂單。

在為企業提供強大的服務之外，開發區更是為集成電路企業發展提供了強有力的資金支持，建立了以亦莊國投為核心的集成電路投融資體系，共參與集成電路產業基金12只，基金總規模超過1600億元，亦莊國投認繳出資規模超過160億元，重點參與國家集成電路產業投資基金（國家級）、北京集成電路制造和裝備子基金（北京市級）、北京集成電路設計與封測子基金（北京市級）、與全球第三的面板廠京東方合作設立芯動能投資基金、與芯片設計新興企業集創北方合作設立屹唐長厚投資基金等。

開發區積極創建全球化布局，依托亦莊國投投融資平臺，組織資金開展海外項目并購，實現集成電路產業先進項目和技術引進，成功引進芯成半導體(ISSI)、豪威科技（OV）、瑪特森（Mattson）設備公司和瑞典Silex（MEMS晶圓代工廠）等海外集成電路產業鏈關鍵環節企業，有助于我國在存儲器、圖像傳感器芯片、半導體裝備、MEMS（微機電系統）等關鍵領域實現彎道超車，并填補國內相關產業空白。

優質的環境帶來了產業的快速聚集。近年來，開發區的集成電路產業取得了重大的進展和突破，已聚集上下游企業近100家，產業鏈條日趨完善，重點企業工業產值總量由2013年的125.7億元增長到2017年的215.6億元，年均增速17.8%。

在集成電路設計環節，隨著集創北方的入駐以及向產業鏈下游的延伸，設計企業與京東方、中芯國際核心企業合作更加緊密，虛擬IDM的模式得到強化和突破。加之我區之前落戶的英飛凌、華夏芯、兆易創新等公司在內的一批國內外知名的集成電路設計企業，有利于構建“芯片-軟件-整機-系統-信息服務”大集成電路自主生態系統。

在晶圓制造環節，以中芯北方為代表的12英寸晶圓生產線，以燕東微電子為代表的8英寸特色工藝線和以納微矽磊為代表的MEMS傳感器芯片生產線相繼落戶并開工建設。其中，中芯北方B2項目擴產后將與B1項目形成總計12萬片/月的12英寸晶圓高端產能，工藝節點橫跨130-14納米，成為國內規模最大、技術最先進的集成電路生產基地，未來還將繼續擴產至30萬片/月的巨大產能；燕東8英寸線項目將成為北京首條大規模量產8英寸線，是12英寸晶圓生產線的重要補充，為北京地區設計企業、科研院所提供試制平臺，為裝備和材料企業提供驗證平臺。納微矽磊計劃引進13項業內領先的MEMS工程化綜合應用核心工藝和27組共200余項國際專利，形成MEMS產品研發制造平臺和生產管理體系，建成北京市首條引領國際標準的MEMS代工生產線，填補國內純MEMS體硅工藝代工線空白。

在封裝測試環節，威訊聯合半導體有限公司（Qorvo）是一家集設計、開發及生產“射頻”集成電路產品為一體的美國獨資企業，產品用于無線通訊的射頻集成電路放大裝置（RFICs）和信號處理傳輸設備，公司是全球功頻放大器產品的主要供貨商，致力于開拓地方無線局域網（WLAN）及藍牙無線技術產品的市場。威訊擴產項目已正式落戶開發區，項目達產后，開發區將新誕生一家百億級企業。同時，開發區正在積極引進具備行業先進技術的封測項目，繼續提升開發區集成電路封測能力。

在設備制造環節，在原已形成的以北方華創為代表的半導體高端裝備的基礎上，近年來重點引進了以科益虹源、華卓精科、東方晶源為代表的國產光刻機零部件集群。其中，北京北方華創微電子裝備有限公司致力于打造高端半導體工藝裝備及核心零部件的研發與制造基地，成功開發以刻蝕設備（ETCH）、化學氣相沉積設備（CVD）、物理氣相沉積設備（PVD）三大類半導體裝備產品為基礎的20余類產品，成功替代國外廠商同類產品，部分產品正式進入海外主流芯片生產線。北京科益虹源光電技術有限公司全面開展國家02專項28nm浸沒式曝光光源項目開發，完成了193nm工程樣機的實驗；北京華卓精科科技股份有限公司生產的光刻機工件臺填補國內光刻機關鍵零部件研發和制造領域空白，具有獨占和不可替代的優勢地位，為下一步北京市開展光刻機整機研制奠定基礎。東方晶源微電子科技有限公司承擔02專項任務，完成了首臺國產多功能電子束圖形檢測系統的系統集成，達到國際先進水平。