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?三星擴大DRAM產能,今年資本支出增8%

文章出處:半導體 責任編輯:上海現易電子元器件有限公司 發表時間:2020-11-10

隨著三星電子(Samsung Electronics)大舉擴充DRAM產能,分析人士預估,今(2018)年廠商的資本支出有望成長8%,半導體設備族群前景暢旺。


barron`s.com 12日報導,Keybanc分析師Weston Twigg發表研究報告指出,今年芯片廠商對設備的資本支出,有望成長8%、高于先前他所預估的5%,需求更有機會增加10%以上,其中邏輯IC設備的需求相對穩定,晶圓代工廠雖然上半年有些疲軟、但下半年應會改善。


Twigg說,三星似乎正在積極擴充DRAM產能,估計存儲器的需求會比設備業者一季前預估的還要強勁,DRAM擴產、3D NAND產能持續上升,有望讓芯片廠商的資本支出一路增加至今年底。雖然三星基本上已經停止擴產OLED、并大幅降低現有OLED產能的利用率,但應用材料 ( Applied Materials )對此因素的曝險度相對低,其OLED相關營收僅占整體的7%。


應用材料12日應聲上漲2.69%、收56.43美元,重返60日移動平均線,并創3月26日收盤高。半導體蝕刻機臺制造商科林研發公司( Lam Research Corp. )同步上漲2.57%、收206.02美元,創3月26日以來收盤高。晶圓檢測設備制造商科磊 ( KLA-Tencor Corporation )也上漲2.33%、收109.12美元。


臺積電 (2330)、三星對先進制程競賽白熱化,對半導體設備廠商而言,也會相當有利。

歐系外資4月9日甫發表研究報告指出,最近有謠言暗示,臺積電可能推延了極紫外光(EUV)微影設備訂單的交期,但根據實地調查,EUV的需求展望非但并未減弱、反之還有增溫跡象,估計歐洲半導體設備業龍頭艾司摩爾(ASML Holding NV)明(2019)年的EUV產能,應能如期被搶訂一空。


報告直指,臺積電已在4月2日向ASML和日本半導體設備廠Lasertec下達了近10億美元的訂單,顯示第一季訂購的設備數量應有6-8臺。三星則是對EUV態度最積極的廠商,據調查,三星或許會將至少一部份的1y nm DRAM (~1 layer)產能導入EUV,量產DRAM的時間點,甚至會比7 奈米晶圓代工/邏輯芯片還要早,因為三星打算先用風險較低的DRAM試產,以便在未來大量替7奈米制程導入EUV。

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